Архив научных статейиз журнала «Микроэлектроника»
-
ОДНОСЛОЙНЫЕ АНИЗОТРОПНЫЕ МАГНИТОРЕЗИСТИВНЫЕ ДАТЧИКИ МАГНИТНОГО ПОЛЯ И ТОКА С НАКЛОННЫМИ ПОЛОСКАМИ
ДЯГИЛЕВ В.В., КАСАТКИН С.И., МУРАВЬЁВ А.М., РЕЗНЁВ А.А., САУРОВ А.Н. — 2007 г.
Рассмотрены результаты теоретических, экспериментальных и технологических исследований однослойных анизотропных магниторезистивных датчиков магнитного поля нового типа с магниточувствительным элементом в виде набора полос, выполненных наклонно по отношению к оси легкого намагничивания. Основным отличием предложенного датчика является встречное расположение векторов намагниченности магнитных полосок соседних плеч мостовой схемы датчика. Это позволило существенно уменьшить размеры датчика.
-
ОСОБЕННОСТИ ИНТЕНСИФИКАЦИИ ТРАВЛЕНИЯ КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ CF4/O2*
ГОРОБЧУК А.Г., ГРИГОРЬЕВ Ю.Н. — 2007 г.
На основе численного моделирования исследуется влияние концентрации кислорода на скорость травления кремния в плазме CF4/O2. Расчеты выполнены с использованием усовершенствованной физической модели неизотермического реактора с многокомпонентной кинетикой, включающей 12 реагентов F, F2, CF2, CF3, CF4, C2F6, O, O2, CO, CO2, COF, COF2. В качестве основного механизма, снижающего скорость травления, рассматривалась “конкуренция” процессов взаимодействия фтора с кремнием и хемосорбции кислорода на поверхности образца. Предложена усовершенствованная модель описания конкурирующих процессов травления, хемосорбции O и адсорбции радикалов CF2, CF3 на кремнии. Изучено влияние параметров модели на скорость травления. Найдено, что хемосорбция O на кремнии преобладает над процессами адсорбции радикалов CF2, CF3. Показано существенное влияние отношения коэффициентов прилипания атомов фтора и кислорода на кремнии на положение максимумов скорости спонтанного травления и концентрации активных частиц в зависимости от процентного содержания кислорода в смеси. Найдено, что при равенстве этих коэффициентов максимум скорости спонтанного травления достигается при концентрации кислорода, на 1015% меньшей соответствующей максимуму содержания активного фтора в объеме реактора.
-
ОСОБЕННОСТИ ПЕРЕДАЧИ ДЕФОРМАЦИИ ОТ ПОДЛОЖКИ К РЕЗИСТОРУ В ВИДЕ МЕЗАСТРУКТУРЫ
ЛЮБИМСКИЙ В.М. — 2007 г.
Получены аналитические выражения, связывающие деформации подложки, зависящие от координат, с деформацией резистора в виде мезаструктуры, отделенного от подложки промежуточным слоем. Сравнение теоретических и экспериментальных результатов показало хорошее их согласие.
-
ПОЛУЧЕНИЕ И СВОЙСТВА ПЛЕНОК БФСС В РЕАКТОРЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
АНУФРИЕВ Л.П., НАЛИВАЙКО О.Ю., ТУРЦЕВИЧ А.С. — 2007 г.
Проведена модернизация установки осаждения слоев при пониженном давлении “Карат” и реализована система подачи жидких реагентов при помощи испарителей барботажного типа. Впервые проведено исследование процессов осаждения и свойств пленок среднетемпературного фосфоро- и борофосфоросиликатоного стекол, с использованием системы ТЭОСДМФТЭБ. Показано, что использование диметилфосфита позволяет в широком диапазоне управлять концентрацией фосфора в пленках СТ ФСС и БФСС. Установлено, что оптимальным диапазоном концентраций бора и фосфора, обеспечивающим приемлемую планарность поверхности после оплавления и устойчивость к дефектообразованию при межоперационном хранении, составляет 8.7 ± 0.3 вес. % при Ср = 3.03.8 вес. %. Установлено, что при использовании системы ТЭОСДМФТЭБ(ТМБ) обеднения концентрации фосфора в пленке вдоль реактора не происходит, а суммарная концентрация Св + Ср остается практически постоянной. При этом скорость осаждения пленок БФСС составляет 9.010.0 нм/мин и обеспечивается высокая однородность пленок по толщине. После осаждения пленки имеют плотность 2.3 г/см3 и “зеркальную” поверхность, что свидетельствует о минимальной шероховатости поверхности. Пленки БФСС оптимального состава характеризуются пониженной реакционной способностью по отношению к влаге воздуха.
-
ПОЛУЧЕНИЕ ТОНКИХ СЛОЕВ НА АРСЕНИДЕ ГАЛЛИЯ В ПРОЦЕССАХ ЕГО ХЕМОСТИМУЛИРОВАННОГО ТЕРМООКСИДИРОВАНИЯ С УЧАСТИЕМ ВОЛЬФРАМОВОЙ КИСЛОТЫ
ЛАВРУШИНА С.С., ЛУКИН А.Н., МИТТОВА И.Я., ПОПЕЛО А.В., ХАРИТОНОВА Т.В. — 2007 г.
Исследовано влияние вольфрамовой кислоты на закономерности роста оксидных слоев на арсениде галлия при его термическом окислении. Установлено, что введение H2WO4 в зону реакции приводит к включению в растущие слои вольфрама и образованию гетерополисоединений.
-
ПРЕОБРАЗОВАНИЯ ПОРИСТЫХ СЛОЕВ ПРИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОМ ОТЖИГЕ. МОДЕЛИРОВАНИЕ
ГОВОРУХА Т.Б., ЗВЕРЕВ А.В., НЕИЗВЕСТНЫЙ И.Г., ШВАРЦ Н.Л., ЯНОВИЦКАЯ З.Ш. — 2007 г.
В данной работе с помощью решеточной кинетической Монте-Карло модели исследовались морфологические преобразования рыхлых пленок разной плотности в процессе высокотемпературного отжига. Сравнивались характеристики пористых пленок с разной исходной плотностью в различные моменты времени спекания. Изучались слои с пористостью oт 20% до 50%, имеющие кубическую решетку. Показано, что для пористости менее 25% в пленке образуются замкнутые поры, а в пленках с бoльшей пористостью формируются перколяционные поры. Найдено, что скорость спекания немонотонно зависит от времени.
-
ПРОГНОЗИРОВАНИЕ ДОЛГОВЕЧНОСТИ ТТЛ ИС ПО ПАРАМЕТРИЧЕСКИМ ОТКАЗАМ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ АРПСС-МОДЕЛЕЙ
ГОРЛОВ М.И., СТРОГОНОВ А.В. — 2007 г.
Методом БоксаДженкинса (АРПСС-модели) проведено прогнозирование наступления параметрических отказов высоконадежных ТТЛ ИС типа 134ЛБ1, 106ЛБ1, 133ЛР3, 11ЛА8 по результатам испытаний на долговечность продолжительностью 110150 тыс.ч. Интервальными прогнозами АРПСС-моделей для ИС типа 106, 134 не подтверждается гарантийная наработка 150 тыс. ч, а для ИС типа 133ЛР3, 133ЛА8 подтверждается гарантийная наработка в облегченном режиме не менее 200 тыс.ч, установленная в ТУ [1].
-
ПРОЕКТИРОВАНИЕ ПРОГРАММИРУЕМЫХ ЧАСТОТНЫХ СИНТЕЗАТОРОВ ДИАПАЗОНА 11500 МГЦ ДЛЯ СИСТЕМ СИНХРОНИЗАЦИИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ УСТРОЙСТВ ОБРАБОТКИ ИНФОРМАЦИИ
БАЙКОВ В.Д., ГАРМАШ А.А., РОГАТКИН Ю.Б., СЕВРЮКОВ А.Н. — 2007 г.
В статье рассматриваются вопросы проектирования полностью интегрированных частотных синтезаторов с автоматической фазовой подстройкой частоты (ФАПЧ), предназначенных для синхронизации интегральных процессорных устройств на частотах 11500 МГц. Основное внимание уделяется схемотехническим разработкам и характеристикам базовых аналоговых блоков ФАПЧ, проверенных в составе изготовленных микросхем (по стандартной КМОП технологии уровня 0.25 и 0.18 мкм), стабилизированного блока задания электрического режима, фазочастотного детектора (ФЧД), зарядно-разрядного блока (Charge Pump), фильтра нижних частот (ФНЧ) и управляемого напряжением генератора частоты (ГУН). Приводится электрическая схема ГУН с верхней частотой 11.3 ГГц для технологии 0.25 мкм и более 2 ГГц для технологии 0.18 мкм. Рассматриваются особенности построения цифровой части ФАПЧ с широким диапазоном перепрограммирования частоты (от 1 до 1000 МГц и выше). Приводятся и анализируются частотные и переходные характеристики ФАПЧ, потребляемый ток и показатели джиттера.
-
РАДИАЦИОННО-СТИМУЛИРОВАННОЕ ТЕРМИЧЕСКОЕ ОКИСЛЕНИЕ КРЕМНИЯ
БАШИН А.Ю., СИМАКОВ А.Б. — 2007 г.
Разработана методика и необходимое оборудование для радиационно-стимулированного термического окисления кремния. Проведено исследование электрических и радиационных характеристик пленки SiO2, выращенной в присутствии гамма-излучения с энергией 511 кэВ. Представлены возможные физические механизмы процессов, происходящих в растущем слое SiO2 при воздействие на него гамма-излучения.
-
РАСЧЕТ ВОЛЬТ-АМПЕРНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ ОДНОЭЛЕКТРОННОГО ДИОДА
ВАСЮТИН Е.В., ПОГОСОВ В.В. — 2007 г.
Теоретически исследованы эффекты одноэлектронного туннельного заряжения и кулоновской блокады в кластерной структуре (молекулярном диоде) с учетом квантования электронных уровней в островковом электроде. Спектр электронов рассчитан для малых кластеров сферической и дискообразной формы. При условии сохранения полной энергии конструкции с учетом контактной разности потенциалов получены уравнения для анализа ее вольт-амперной характеристики. В теорию введены ограничения, связанные с кулоновской неустойчивостью кластера и релаксацией электронов. Для одноэлектронных диодов на малых кластерах золота рассчитана величина щели тока и ее асимметрия по напряжению.
-
РЕГУЛИРОВАНИЕ АДГЕЗИОННОЙ ПРОЧНОСТИ ТОНКИХ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК В МНОГОСЛОЙНЫХ СТРУКТУРАХ
ВАРДОСАНИДЗЕ Л.Р., ДЖАНГИДЗЕ Л.Б., ТАВХЕЛИДЗЕ-МЛАДШИЙ А.Н., ТАЛИАШВИЛИ З.И. — 2007 г.
Рассматривается технология изготовления многослойных структур c управляемым адгезионным взаимодействием между металлическими пленками, составляющими эту структуру. Управление адгезионным взаимодействием достигалось модификацией поверхности соответствующей металлической пленки до возникновения адгезионной связи в вакууме, изменением технологических параметров. Адгезионная прочность оценивалась температурой расщепления структур за счет разности коэффициента термического расширения подложки и конечного металлического электрода. Анализ поверхностей, до и после расщепления структур проводился оптически на интерферометре Майкельсона.
-
СПОСОБЫ ПОВЫШЕНИЯ ПЛАЗМОСТОЙКОСТИ РЕЗИСТНЫХ МАСОК
БОГАТЫРЕВА Л.А., ЗЕЛЕНЦОВ С.В., ЗЕЛЕНЦОВА Н.В., КОЛЕСОВ А.Н., МАШТАКОВ И.А. — 2007 г.
В обзоре рассмотрены способы увеличения стойкости фоторезистных масок к плазменному травлению и описаны физико-химические процессы, лежащие в основе этих методов.
-
СТРУКТУРНЫЕ И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПЛЕНОК НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЯ, ПОЛУЧЕННОГО МЕТОДОМ PECVD. СРАВНЕНИЕ С ПОРИСТЫМ КРЕМНИЕМ
ВИКУЛОВ В.А., КОРОБЦОВ В.В. — 2007 г.
Проведены сравнительные комплексные исследования пленок нанокристаллического кремния (nc-Si), полученного методом плазмостимулированного химического осаждения из газовой фазы, и пористого кремния, полученного методом электрохимического травления. С помощью рентгеноструктурного анализа показано, что осажденные пленки nc-Si представляют собой хорошо ориентированную вдоль (004)-плоскости систему нанокристаллов со средними размерами 4.8 нм. Методом атомной силовой микроскопии установлено, что пленки nc-Si имеют высокоразвитую наноразмерную конусоподобную поверхность. Обнаружена фотолюминесценция слоев nc-Si при комнатной температуре с максимумом при 1.55 эВ. Исследованы оптические свойства nc-Si и пористого кремния в видимом и инфракрасном диапазоне спектра. Установлена строгая корреляция между физико-химическими свойствами nc-Si и пористого кремния.
-
СУБМИКРОННЫЙ ДЖОЗЕФСОНОВСКИЙ ПЕРЕХОД КАК ДАТЧИК ТОКОВЫХ СОСТОЯНИЙ МЕЗОСКОПИЧЕСКОЙ СВЕРХПРОВОДЯЩЕЙ СТРУКТУРЫ
ЖИЛЯЕВ И.Н. — 2007 г.
При пропускании тока через цепочку, состоящую из двух джозефсоновских переходов субмикронных размеров и пленки микронных размеров, находящейся между ними, на зависимости напряжения от магнитного поля наблюдаются пилообразные осцилляции. Эффект объясняется изменением локального магнитного поля при входе вихрей в пленку и его влиянием на состояние джозефсоновских переходов.
-
ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ИССЛЕДОВАНИЯ РАБОТОСПОСОБНОСТИ КОЛЬЦЕВЫХ АНИЗОТРОПНЫХ МАГНИТОРЕЗИСТИВНЫХ МИКРОЭЛЕМЕНТОВ
ВАГИН Д.В., КАСАТКИН С.И., ПОЛЯКОВ П.А. — 2007 г.
Приведены результаты теоретического исследования работоспособности датчика магнитного поля на основе тонкопленочного многослойного анизотропного магниторезистивного микроэлемента кольцевой формы. Предложена модель, на основе которой проведен аналитический расчет распределения намагниченности в датчике. Получена система уравнений для определения отклонения вектора намагниченности. Получены оптимальные характеристики вход-выход магниторезистивного микроэлемента, его чувствительности и угловая характеристика. Простота модели, позволяющая избежать больших затрат по времени на численный счет, позволяет ставить задачи оптимизации, что являлось бы затруднительным при использовании подхода, основанного на теории микромагнетизма.
-
ТРАНСФОРМАЦИЯ ПОР И РАСПРЕДЕЛЕНИЕ ЛЕГИРУЮЩЕЙ ПРИМЕСИ В ПОРИСТОМ КРЕМНИИ
ДОЛБИК А.В., КОВАЛЕВСКИЙ А.А., ТАРАСИКОВ М.В., УНУЧЕК Д.Н. — 2007 г.
Установлено, что процесс трансформации (спекания) пористого слоя кремния начинается у поверхности, т.е. с области с наибольшим нарушением цельности исходного кремния. В этом случае система стремиться к устойчивому состоянию в результате перераспределения плотности нарушенного слоя в процессе массопереноса и развивается вдоль длины пор вплоть до 50 мкм. Малые и мелкие поры закрываются полностью, а поры длиной более 50 мкм остаются до конца незакрытыми со стороны подложки, что подтверждается профилями распределения примеси. Обнаружена тесная корреляция между температурой и временем термического воздействия, уровнем легирования исходной подложки и пористостью ПСК с процессом трансформации (спекания) пор. Повышение температуры и продолжительности термического воздействия, а также уровня легирования исходной подложки вызывает интенсификацию процесса закрытия пор по всей геометрии пористого слоя. Максимальное закрытие пор наблюдается при пористости 1550%.
-
УСТРОЙСТВА ВЫБОРКИ-ХРАНЕНИЯ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИХ АЦП
БОЧАРОВ Ю.И., ГУМЕНЮК А.С. — 2007 г.
Рассмотрены способы построения устройств выборки-хранения (УВХ), применяемых в конвейерных аналого-цифровых преобразователях, реализуемых по КМОП технологии. Приведены результаты анализа погрешностей УВХ различных типов и показаны методы повышения их точности. Дан пример практической реализации устройств выборки-хранения, которые использованы в конвейерном АЦП с быстродействием 20 Мвыб/с, выполненного по КМОП технологии с проектными нормами 0.18 мкм.
-
ФОРМИРОВАНИЕ ТЕРМИЧЕСКИХ ОКСИДНЫХ СЛОЕВ НА GAAS С УЧАСТИЕМ ФОСФОРНОМОЛИБДЕНОВОЙ КИСЛОТЫ
ЛАВРУШИНА С.С., ЛЕБЕДЕВА Е.В., МИТТОВА И.Я., ПОПЕЛО А.В. — 2007 г.
Исследованы закономерности формирования слоев на арсениде галлия в процессах его термооксидирования с участием фосфорномолибденовой кислоты. Установлено, что образующиеся слои состоят в основном из фосфата галлия и обладают лучшими электрофизическими параметрами, чем собственные слои.
-
ФОТОЛЮМИНЕСЦЕНТНАЯ МЕТОДИКА ОЦЕНКИ КАЧЕСТВА ДЛИННОПЕРИОДНЫХ GAAS/ALGAAS РЕЗОНАНСНО-ТУННЕЛЬНЫХ СВЕРХРЕШЕТОЧНЫХ СТРУКТУР НА РАЗНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ЭТАПАХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ
БЕЛОВ А.А., КАЗАКОВ И.П., КАРУЗСКИЙ А.Л., МИТЯГИН Ю.А., МУРЗИН В.Н., ПЕРЕСТОРОНИН А.В., ЦЕХОШ В.И., ШМЕЛЁВ С.С. — 2007 г.
Разработана методика определения характеристик резонансно-туннельных структур на основе длиннопериодных сверхрешеток из GaAs/AlGaAs по измерениям фотолюминесценции с учетом их особенностей, в частности, обусловленных шириной квантовых ям и плотностью энергетического спектра. Методика позволяет оценивать качество изготовленных структур на всех этапах технологического процесса, включая рост многослойной структуры методом МЛЭ, литографию и отжиг. Длиннопериодные структуры представляют интерес, в частности, с точки зрения создания нового типа твердотельных устройств на межподзонных переходах, излучающих в дальней инфракрасной (ИК) области. Новые возможности связаны с принципиальным различием процессов рассеяния и релаксации носителей заряда в нижних состояниях размерного квантования, которые могут осуществляться в таких структурах, как с участием, так и без участия оптических фононов. Разработанная методика может применяться как при низких, так и комнатных температурах и позволяет с помощью корректировки технологических процессов выращивать структуры высокой однородности с необходимыми параметрами.
-
GAAS - МНОГОЭЛЕМЕНТНЫЙ ДЕТЕКТОР ДИСКРЕТНОЙ РЕГИСТРАЦИИ РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
БАБИЧЕВ Е.А., БАРУ С.Е., ДВОРЯНКИН В.Ф., ДИКАЕВ Ю.М., КРИКУНОВ А.И., КУДРЯШОВ А.А., ПОРОСЕВ В.В., САВИНОВ Г.А., ТЕЛЕГИН А.А. — 2004 г.
Представлены результаты исследования многоэлементного пиксельного детектора на основе GaAs, и его характеристики. Многоэлементный детектор, представляющий собой ряд из 64 пикселей (каналов детектора) с шагом 0.4 мм, предназначен для дискретной регистрации рентгеновского излучения. При облучении детектора рентгеновским излучением получена хорошая линейность сигнала при изменении анодного тока на рентгеновском источнике. Представленные сигналы фотоотклика детектора в зависимости от пространственного положения пучка свидетельствуют об отсутствии взаимного влияния фотооткликов соседних каналов детектора.